不均一系における消光機構分析ソフトウェアの開発

城石 英伸a*, 鈴木 和久a, 瀬尾 美智子a, 時田 澄男b, 金子 正夫a, §

a茨城大学理学部自然機能科学科, 〒310-8512 茨城県水戸市文京2-1-1
b埼玉大学工学部応用化学科, 〒338-8570 埼玉県さいたま市下大久保255

(Received: November 30, 2001; Accepted for publication: January 24, 2002; Published on Web: March 22, 2002)

  さまざまな消光剤濃度における減衰曲線を13種類のモデルで解析するため,減衰曲線の消光剤の濃度に対する関数を導出し,GAUSS-NEWTON法により解析するプログラム"Q-ChanG4(QuenCHingANalyzerG4)"を作成した。同時にStern-Volmer plotによる解析も行えるようにし,不均一系における消光機構の解析が容易にできるようにした。また、ポリエチレングリコール中でのRu(bpy)32+の発光のMV2+による消光反応を研究した結果、消光機構はModel 10によく一致し、ポアソン分布型の静的消光と、動的消光の複合型の消光機構であることが明らかとなった。また、この系においては二次消光速度定数が2×108M-1s-1と水中と同程度に大きく、局部的な分子運動が水中と同程度おこっていることが明らかとなった。

キーワード: Q-chanG4, 発光, 消光, 分析ソフトウェア, ポリエチレングリコール, メチルビオロゲン, トリス(2,2'-ビピリジン)ルテニウム, 固相


§ Correspondence to be addressed
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