ホウ素酸化物と相互作用したメチルラジカルに関する計算化学的研究

高田 知哉a*, 北島 由梨a, b

a 旭川工業高等専門学校 物質化学工学科, 〒071-8142 旭川市春光台2-2-1-6
b 現所属: 北海道大学工学部 材料工学科, 〒060-8628 札幌市北区北13条西8丁目

(Received: January 23, 2004; Accepted for publication: April 5, 2004; Published on Web: August 9, 2004)

  ホウ素酸化物表面上に吸着したメチルラジカルの構造および電子状態を明らかにすることを目的として,ホウ素酸化物モデルクラスターと相互作用したメチルラジカルについて密度汎関数法により研究した.本研究では,(1) ホウ素原子とメチルラジカルが相互作用したモデル,および (2) ホウ素原子に結合した水酸基とメチルラジカルが相互作用したモデルを作成し,それぞれのモデルの最適化構造,相互作用エネルギー,メチルラジカルのプロトン超微細結合定数を調べた.計算結果に基づいて,ホウ素酸化物表面におけるメチルラジカルの吸着サイト構造および超微細相互作用について検討した.

キーワード: メチルラジカル, ホウ素酸化物, 吸着サイト, 超微細結合定数, 密度汎関数法


Abstract in English

Text in Japanese

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